Drukuj

Wyszukano: Wzorce+biologiczne


19 675  wyniki/ów wyszukiwania

Doprecyzuj wyniki Sortuj

Sort Results

Widok listy Widok uproszczony (nowość)
SearchResultCount:"19675"

Oceń wyniki wyszukiwania

Product Image-HEWL5190-8298

Nickel Standard, 1000 mg/L, Nikiel, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Nickel Standard, 1000 mg/L, Nikiel, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8298
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Image Unavailable-HEWL5190-8255

Boron Standard, 1000 µg/L, Bor, Matryca: H₂O, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Boron Standard, 1000 µg/L, Bor, Matryca: H₂O, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8255
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Agilent
Image Unavailable-HONCE4102-100ML

Wzorce glinu, 10000 mg/L, Fluka™, Fluka™, Glin, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS

Opis: Wzorce glinu, 10000 mg/L, Fluka™, Fluka™, Glin, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS
Numer katalogowy: HONCE4102-100ML
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Honeywell Chemicals
Image Unavailable-HONCE4001-100ML

Wzorce glinu, 1000 mg/L, Fluka™, Fluka™, Glin, Matryca: 2% HCl, Aplikacja: Wzorce AAS

Opis: Wzorce glinu, 1000 mg/L, Fluka™, Fluka™, Glin, Matryca: 2% HCl, Aplikacja: Wzorce AAS
Numer katalogowy: HONCE4001-100ML
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Honeywell Chemicals
Image Unavailable-HONCE4002-100ML

Wzorce glinu, 1000 mg/L, Fluka™, Fluka™, Glin, Matryca: 2% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS

Opis: Wzorce glinu, 1000 mg/L, Fluka™, Fluka™, Glin, Matryca: 2% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS
Numer katalogowy: HONCE4002-100ML
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Honeywell Chemicals
Image Unavailable-HONCE4002-500ML

Wzorce glinu, 1000 mg/L, Fluka™, Fluka™, Glin, Matryca: 2% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS

Opis: Wzorce glinu, 1000 mg/L, Fluka™, Fluka™, Glin, Matryca: 2% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS
Numer katalogowy: HONCE4002-500ML
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Honeywell Chemicals
Image Unavailable-HONCE4001-500ML

Wzorce glinu, 1000 mg/L, Fluka™, Fluka™, Glin, Matryca: 2% HCl, Aplikacja: Wzorce AAS

Opis: Wzorce glinu, 1000 mg/L, Fluka™, Fluka™, Glin, Matryca: 2% HCl, Aplikacja: Wzorce AAS
Numer katalogowy: HONCE4001-500ML
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Honeywell Chemicals
Product Image-HEWL5190-8486

Mercury Standard, 1000 mg/L, Rtec, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Mercury Standard, 1000 mg/L, Rtec, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8486
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Agilent
Product Image-HEWL5190-8485

Mercury Standard, 1000 mg/L, Rtec, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Mercury Standard, 1000 mg/L, Rtec, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8485
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Product Image-HEWL5190-8417

Mercury Standard, 10000 mg/L, Rtec, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Mercury Standard, 10000 mg/L, Rtec, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8417
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Agilent
Product Image-HEWL5190-8416

Mercury Standard, 10000 mg/L, Rtec, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Mercury Standard, 10000 mg/L, Rtec, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8416
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Product Image-HEWL5190-8535

Terbium Standard, 1000 mg/L, Terb, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Terbium Standard, 1000 mg/L, Terb, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8535
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Product Image-HEWL5190-8216

Terbium Standard, 10000 mg/L, Terb, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Terbium Standard, 10000 mg/L, Terb, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8216
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Agilent
Product Image-HEWL5190-8585

Vanadium Standard, 10 mg/L, Wanad, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Vanadium Standard, 10 mg/L, Wanad, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8585
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Product Image-HEWL5190-8536

Terbium Standard, 1000 mg/L, Terb, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Terbium Standard, 1000 mg/L, Terb, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8536
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Agilent
Product Image-HEWL5190-8215

Terbium Standard, 10000 mg/L, Terb, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Terbium Standard, 10000 mg/L, Terb, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8215
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
161 - 176 of 19 675