Drukuj

Wyszukano: Wzorce+g\\\\\\\\u0119sto\\\\\\\\u015Bci


18 868  wyniki/ów wyszukiwania

Doprecyzuj wyniki Sortuj

Sort Results

Widok listy Widok uproszczony (nowość)
SearchResultCount:"18868"

Oceń wyniki wyszukiwania

Product Image-HEWL5190-8210

Sulphur Standard, 10000 mg/L, Siarka, Matryca: H₂O, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Sulphur Standard, 10000 mg/L, Siarka, Matryca: H₂O, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8210
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Agilent
Product Image-HEWL5190-8530

Sulphur Standard, 1000 mg/L, Siarka, Matryca: H₂O, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Sulphur Standard, 1000 mg/L, Siarka, Matryca: H₂O, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8530
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Agilent

Certyfikaty


Product Image-HEWL5190-8529

Sulphur Standard, 1000 mg/L, Siarka, Matryca: H₂O, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Sulphur Standard, 1000 mg/L, Siarka, Matryca: H₂O, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8529
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Image Unavailable-HEWL5190-8387

Gadolinium Standard, 10000 mg/L, Gadolin, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Gadolinium Standard, 10000 mg/L, Gadolin, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8387
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Agilent
Product Image-HEWL5190-8504

Potassium Standard, 1000 mg/L, Potas, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Potassium Standard, 1000 mg/L, Potas, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8504
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Agilent
Image Unavailable-HEWL5190-8386

Gadolinium Standard, 10000 mg/L, Gadolin, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Gadolinium Standard, 10000 mg/L, Gadolin, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8386
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Image Unavailable-HEWL5190-8456

Gadolinium Standard, 1000 mg/L, Gadolin, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Gadolinium Standard, 1000 mg/L, Gadolin, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8456
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Agilent
Product Image-HEWL5190-8571

Lead Standard, 10 mg/L, Olów, Matryca: 2% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Lead Standard, 10 mg/L, Olów, Matryca: 2% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8571
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Product Image-HEWL5190-8503

Potassium Standard, 1000 mg/L, Potas, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Potassium Standard, 1000 mg/L, Potas, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8503
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Image Unavailable-HEWL5190-8241

Gadolinium Standard, 1000 mg/L, Gadolin, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Gadolinium Standard, 1000 mg/L, Gadolin, Matryca: 5% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8241
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Image Unavailable-HEWL5190-8443

Ruthenium Standard, 10000 mg/L, Ruten, Matryca: 20% HCl, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Ruthenium Standard, 10000 mg/L, Ruten, Matryca: 20% HCl, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8443
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Agilent
Image Unavailable-HEWL5190-8442

Ruthenium Standard, 10000 mg/L, Ruten, Matryca: 20% HCl, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Ruthenium Standard, 10000 mg/L, Ruten, Matryca: 20% HCl, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8442
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Image Unavailable-HEWL5190-8514

Ruthenium Standard, 1000 mg/L, Ruten, Matryca: 20% HCl, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Ruthenium Standard, 1000 mg/L, Ruten, Matryca: 20% HCl, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8514
j.m.: 1 * 500 mL
Producent: Agilent
Image Unavailable-HEWL5190-8586

Yttrium Standard, 10 µg/mL, Itr, Matryca: 2% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Yttrium Standard, 10 µg/mL, Itr, Matryca: 2% HNO₃, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8586
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Image Unavailable-HEWL5190-8513

Ruthenium Standard, 1000 mg/L, Ruten, Matryca: 20% HCl, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP

Opis: Ruthenium Standard, 1000 mg/L, Ruten, Matryca: 20% HCl, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP-MS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: HEWL5190-8513
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Agilent
Product Image-96442-100ML

Multi-Element Standard, Transition metal mix 2 for ICP, 100 mg/L, TraceCERT®, Supelco®, Matryca: 2% HNO₃/1% HF, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP

Opis: Multi-Element Standard, Transition metal mix 2 for ICP, 100 mg/L, TraceCERT®, Supelco®, Matryca: 2% HNO₃/1% HF, Aplikacja: Wzorce AAS, Wzorce do ICP
Numer katalogowy: 96442-100ML
j.m.: 1 * 100 mL
Producent: Merck
193 - 208 of 18 868