Drukuj

Wyszukano: Szkie\u0142ka+mikroskopowe+i+nakrywkowe


1 753  wyniki/ów wyszukiwania

Doprecyzuj wyniki Sortuj

Sort Results

Widok listy Widok uproszczony (nowość)
SearchResultCount:"1753"

Oceń wyniki wyszukiwania

Product Image-630-3366

HI PLAN EPI 10×/0,25 NA; BF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 10×, Odległość robocza: 12 mm

Opis: HI PLAN EPI 10×/0,25 NA; BF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 10×, Odległość robocza: 12 mm
Numer katalogowy: 630-3366
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3367

HI PLAN EPI 20×/0,40 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 20×, Odległość robocza: 1,15 mm

Opis: HI PLAN EPI 20×/0,40 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 20×, Odległość robocza: 1,15 mm
Numer katalogowy: 630-3367
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3370

N PLAN EPI 100×/0,85 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 100×, Odległość robocza: 0,5 mm

Opis: N PLAN EPI 100×/0,85 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 100×, Odległość robocza: 0,5 mm
Numer katalogowy: 630-3370
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3369

N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Odległość robocza: 0,5 mm

Opis: N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Odległość robocza: 0,5 mm
Numer katalogowy: 630-3369
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506083

N PLAN 2,5×/0,07 NA; BF, POL, PH, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Odległość robocza: 11,2 mm

Opis: N PLAN 2,5×/0,07 NA; BF, POL, PH, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Odległość robocza: 11,2 mm
Numer katalogowy: LEIM11506083
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506237

HI PLAN 63×/0,75 NA, M25 thread; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,31 mm

Opis: HI PLAN 63×/0,75 NA, M25 thread; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,31 mm
Numer katalogowy: LEIM11506237
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3310

HI PLAN objective CY 10×/0,25 NA PH1; BF, PH, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm

Opis: HI PLAN objective CY 10×/0,25 NA PH1; BF, PH, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm
Numer katalogowy: 630-3310
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506097

N PLAN 40×/0,65 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,36 mm

Opis: N PLAN 40×/0,65 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,36 mm
Numer katalogowy: LEIM11506097
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506158

N PLAN 100×/1,25 NA oil; BF, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Odległość robocza: 0,12 mm

Opis: N PLAN 100×/1,25 NA oil; BF, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Odległość robocza: 0,12 mm
Numer katalogowy: LEIM11506158
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506096

N PLAN 20×/0,40 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 0,39 mm

Opis: N PLAN 20×/0,40 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 0,39 mm
Numer katalogowy: LEIM11506096
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506405

N PLAN 10×/0,25 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm

Opis: N PLAN 10×/0,25 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm
Numer katalogowy: LEIM11506405
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506236

HI PLAN achromatic objective, 40×/0,65 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,35 mm

Opis: HI PLAN achromatic objective, 40×/0,65 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,35 mm
Numer katalogowy: LEIM11506236
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506349

HC PLAN APO 63×/1,40 NA - 0,60 oil; BF, DIC, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,14 mm

Opis: HC PLAN APO 63×/1,40 NA - 0,60 oil; BF, DIC, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,14 mm
Numer katalogowy: LEIM11506349
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556036

N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Odległość robocza: 11,2 mm

Opis: N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Odległość robocza: 11,2 mm
Numer katalogowy: LEIM11556036
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556061

HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 12 mm

Opis: HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 12 mm
Numer katalogowy: LEIM11556061
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556511

HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 12 mm

Opis: HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 12 mm
Numer katalogowy: LEIM11556511
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
177 - 192 of 1 753