Drukuj

Wyszukano: Szkie\u0142ka+mikroskopowe+i+nakrywkowe


1 753  wyniki/ów wyszukiwania

Doprecyzuj wyniki Sortuj

Sort Results

Widok listy Widok uproszczony (nowość)
SearchResultCount:"1753"

Oceń wyniki wyszukiwania

Product Image-LEIM11506382

HC PLAN FLUOTAR 40×/0,80 NA; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,4 mm

Opis: HC PLAN FLUOTAR 40×/0,80 NA; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,4 mm
Numer katalogowy: LEIM11506382
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506519

HC PLAN FLUOTAR 20×/0,55 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 1,2 mm

Opis: HC PLAN FLUOTAR 20×/0,55 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 1,2 mm
Numer katalogowy: LEIM11506519
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506525

HC PLAN FLUOTAR 100×/1,32 NA oil; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Odległość robocza: 0,18 mm

Opis: HC PLAN FLUOTAR 100×/1,32 NA oil; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Odległość robocza: 0,18 mm
Numer katalogowy: LEIM11506525
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506097

N PLAN 40×/0,65 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,36 mm

Opis: N PLAN 40×/0,65 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,36 mm
Numer katalogowy: LEIM11506097
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506220

HCX PL APO 100×/1,40 NA - 0,70 oil; BF, DIC, DF, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Odległość robocza: 0,09 mm

Opis: HCX PL APO 100×/1,40 NA - 0,70 oil; BF, DIC, DF, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Odległość robocza: 0,09 mm
Numer katalogowy: LEIM11506220
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3366

HI PLAN EPI 10×/0,25 NA; BF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 10×, Odległość robocza: 12 mm

Opis: HI PLAN EPI 10×/0,25 NA; BF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 10×, Odległość robocza: 12 mm
Numer katalogowy: 630-3366
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3367

HI PLAN EPI 20×/0,40 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 20×, Odległość robocza: 1,15 mm

Opis: HI PLAN EPI 20×/0,40 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 20×, Odległość robocza: 1,15 mm
Numer katalogowy: 630-3367
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3370

N PLAN EPI 100×/0,85 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 100×, Odległość robocza: 0,5 mm

Opis: N PLAN EPI 100×/0,85 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 100×, Odległość robocza: 0,5 mm
Numer katalogowy: 630-3370
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3369

N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Odległość robocza: 0,5 mm

Opis: N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Odległość robocza: 0,5 mm
Numer katalogowy: 630-3369
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506184

N PLAN 63×/0,80 NA 0,7/D 0,26; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,26 mm

Opis: N PLAN 63×/0,80 NA 0,7/D 0,26; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,26 mm
Numer katalogowy: LEIM11506184
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506277

HI PLAN 20×/0,40 NA SL; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 0,92 mm

Opis: HI PLAN 20×/0,40 NA SL; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 0,92 mm
Numer katalogowy: LEIM11506277
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506401

HI PLAN CY 10×/0,25 NA SL ; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm

Opis: HI PLAN CY 10×/0,25 NA SL ; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm
Numer katalogowy: LEIM11506401
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506349

HC PLAN APO 63×/1,40 NA - 0,60 oil; BF, DIC, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,14 mm

Opis: HC PLAN APO 63×/1,40 NA - 0,60 oil; BF, DIC, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,14 mm
Numer katalogowy: LEIM11506349
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556036

N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Odległość robocza: 11,2 mm

Opis: N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Odległość robocza: 11,2 mm
Numer katalogowy: LEIM11556036
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556511

HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 12 mm

Opis: HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 12 mm
Numer katalogowy: LEIM11556511
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556061

HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 12 mm

Opis: HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 12 mm
Numer katalogowy: LEIM11556061
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
145 - 160 of 1 753