Drukuj

Wyszukano: Szkie\u0142ka+mikroskopowe+i+nakrywkowe


1 753  wyniki/ów wyszukiwania

Sort Results

SearchResultCount:"1753"
Opis: HC PLAN FLUOTAR 100×/1,32 NA oil; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Odległość robocza: 0,18 mm
Numer katalogowy: LEIM11506525
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: HC PLAN FLUOTAR 40×/0,80 NA; BF, DIC, POL, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,4 mm
Numer katalogowy: LEIM11506382
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: HC PLAN FLUOTAR 20×/0,55 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 1,2 mm
Numer katalogowy: LEIM11506519
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: HI PLAN 20×/0,40 NA SL; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 0,92 mm
Numer katalogowy: LEIM11506277
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: HI PLAN CY 10×/0,25 NA SL ; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm
Numer katalogowy: LEIM11506401
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: HCX PL APO 100×/1,40 NA - 0,70 oil; BF, DIC, DF, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Odległość robocza: 0,09 mm
Numer katalogowy: LEIM11506220
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: N PLAN 40×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,37 mm
Numer katalogowy: LEIM11506314
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: HI PLAN EPI 10×/0,25 NA; BF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 10×, Odległość robocza: 12 mm
Numer katalogowy: 630-3366
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: HI PLAN EPI 20×/0,40 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 20×, Odległość robocza: 1,15 mm
Numer katalogowy: 630-3367
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: N PLAN EPI 100×/0,85 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 100×, Odległość robocza: 0,5 mm
Numer katalogowy: 630-3370
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: N PLAN EPI 50×/0,75 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted, incident light, 50×, Odległość robocza: 0,5 mm
Numer katalogowy: 630-3369
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: N PLAN 2,5×/0,07 NA; BF, POL, PH, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Odległość robocza: 11,2 mm
Numer katalogowy: LEIM11506083
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: HI PLAN 63×/0,75 NA, M25 thread; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,31 mm
Numer katalogowy: LEIM11506237
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: HI PLAN objective CY 10×/0,25 NA PH1; BF, PH, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm
Numer katalogowy: 630-3310
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: N PLAN 40×/0,65 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,36 mm
Numer katalogowy: LEIM11506097
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


Opis: N PLAN 100×/1,25 NA oil; BF, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 100×, Odległość robocza: 0,12 mm
Numer katalogowy: LEIM11506158
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS


145 - 160 of 1 753