Drukuj

Wyszukano: Obiektywy+do+mikroskopów


222 868  wyniki/ów wyszukiwania

Doprecyzuj wyniki Sortuj

Sort Results

Widok listy Widok uproszczony (nowość)
SearchResultCount:"222868"

Oceń wyniki wyszukiwania

Product Image-LEIM11506401

HI PLAN CY 10×/0,25 NA SL ; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm

Opis: HI PLAN CY 10×/0,25 NA SL ; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm
Numer katalogowy: LEIM11506401
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506349

HC PLAN APO 63×/1,40 NA - 0,60 oil; BF, DIC, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,14 mm

Opis: HC PLAN APO 63×/1,40 NA - 0,60 oil; BF, DIC, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,14 mm
Numer katalogowy: LEIM11506349
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556036

N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Odległość robocza: 11,2 mm

Opis: N PLAN 2,5×/0,07 NA POL -/- 11,2; BF, POL, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Odległość robocza: 11,2 mm
Numer katalogowy: LEIM11556036
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556511

HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 12 mm

Opis: HI PLAN 10×/0,25 NA POL disp, stain; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 12 mm
Numer katalogowy: LEIM11556511
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556061

HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 12 mm

Opis: HI PLAN 10×/0,25 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 12 mm
Numer katalogowy: LEIM11556061
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556065

HI PLAN 40×/0,65 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,36 mm

Opis: HI PLAN 40×/0,65 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,36 mm
Numer katalogowy: LEIM11556065
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11556071

HI PLAN 20×/0,40 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 0,92 mm

Opis: HI PLAN 20×/0,40 NA POL; BF, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 0,92 mm
Numer katalogowy: LEIM11556071
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506096

N PLAN 20×/0,40 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 0,39 mm

Opis: N PLAN 20×/0,40 NA; BF, DIC, POL, DF, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 0,39 mm
Numer katalogowy: LEIM11506096
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3189

N PLAN 10×/0,25 NA PH1; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm

Opis: N PLAN 10×/0,25 NA PH1; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm
Numer katalogowy: 630-3189
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3188

N PLAN L 20×/0,35 NA PH1; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 6,9 mm

Opis: N PLAN L 20×/0,35 NA PH1; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 20×, Odległość robocza: 6,9 mm
Numer katalogowy: 630-3188
j.m.: 1 * 1 Szt.
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506237

HI PLAN 63×/0,75 NA, M25 thread; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,31 mm

Opis: HI PLAN 63×/0,75 NA, M25 thread; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 63×, Odległość robocza: 0,31 mm
Numer katalogowy: LEIM11506237
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3310

HI PLAN objective CY 10×/0,25 NA PH1; BF, PH, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm

Opis: HI PLAN objective CY 10×/0,25 NA PH1; BF, PH, DF, FLUO contrast; transmitted light, 10×, Odległość robocza: 17,7 mm
Numer katalogowy: 630-3310
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506236

HI PLAN achromatic objective, 40×/0,65 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,35 mm

Opis: HI PLAN achromatic objective, 40×/0,65 NA; BF, DF, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 0,35 mm
Numer katalogowy: LEIM11506236
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506083

N PLAN 2,5×/0,07 NA; BF, POL, PH, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Odległość robocza: 11,2 mm

Opis: N PLAN 2,5×/0,07 NA; BF, POL, PH, FLUO contrast; transmitted, incident light, 2,5×, Odległość robocza: 11,2 mm
Numer katalogowy: LEIM11506083
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-LEIM11506273

HI PLAN phase 40×/0,50 NA PH2; BF, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 2 mm

Opis: HI PLAN phase 40×/0,50 NA PH2; BF, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 2 mm
Numer katalogowy: LEIM11506273
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
Product Image-630-3301

N PLAN L phase 40×/0,55 NA PH2; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 3,3 - 1,9 mm

Opis: N PLAN L phase 40×/0,55 NA PH2; BF, DIC, POL, DF, PH, FLUO contrast; transmitted light, 40×, Odległość robocza: 3,3 - 1,9 mm
Numer katalogowy: 630-3301
j.m.: 1 * 1 SZT
Producent: LEICA MICROSYSTEMS
209 - 224 of 222 868